科研實(shí)習(xí)推薦 | 科研助理招募：電子工程、物理等專業(yè)方向

今天，要給小伙們推薦的是電子工程、物理等專業(yè)方向的科研助理實(shí)習(xí)崗位，一起來看看都有哪些吧~

（一）項(xiàng)目推薦

一、Stencil lithography 模板光刻：一種直接獲得器件的技術(shù)

1、項(xiàng)目簡介

模板光刻(Stencil lithography)，是一種突破性的器件制備技術(shù)，其特點(diǎn)就是避免傳統(tǒng)器件制備技術(shù)中光刻的抗蝕劑涂覆、剝離等工藝步驟，特別適合對抗蝕劑、水和溶劑等敏感的樣品進(jìn)行器件加工。比如，基于石墨烯材料的電子器件，由于石墨烯具有比硅高10倍的載流子遷移率，具有非常優(yōu)越的性能。但是傳統(tǒng)光刻工藝不可避免地在石墨烯表面殘留抗蝕劑分子，從而影響了載流子的遷移，造成實(shí)驗(yàn)測得的載流子遷移率遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于理論值。本項(xiàng)目旨在為石墨烯、黑磷和拓?fù)浣^緣體等新材料開發(fā)一種全新的器件制備技術(shù)，通過一系列微納加工技術(shù)，制備出直接用于環(huán)境敏感材料的器件制備模板，并且應(yīng)用于石墨烯等二維材料。通過本項(xiàng)目的開展，可以學(xué)習(xí)尖端的微納技術(shù)，接觸物理科學(xué)與技術(shù)的最前沿。

2、專業(yè)方向

計(jì)算機(jī)、機(jī)器人、物理、電子/微電子、工程等

3、項(xiàng)目時(shí)長

4周

二、算法與軟件工程：集成電路版圖設(shè)計(jì)（layout）

1、項(xiàng)目簡介

版圖是集成電路從設(shè)計(jì)走向制造的橋梁，它包含了基本電路尺寸、各層拓?fù)涠x等器件相關(guān)的物理信息數(shù)據(jù)。集成電路制造廠家根據(jù)這些數(shù)據(jù)來制造掩模。版圖設(shè)計(jì)是創(chuàng)建工程制圖（網(wǎng)表）的精確的物理描述過程，即定義各工藝層圖形的形狀、尺寸以及不同工藝層的相對位置的過程。通過本項(xiàng)目的實(shí)習(xí)，可以了解集成電路制造出的日常使用的電腦、手機(jī)芯片里各個(gè)納米級晶體管、基本單元、復(fù)雜單元在芯片上的布局；器件間如何設(shè)計(jì)走線，實(shí)現(xiàn)管間、門間、單元間的互連；以及納米器件的尺寸、互連尺寸以及晶體管與互連之間的相對尺寸等。學(xué)員可以系統(tǒng)了解芯片設(shè)計(jì)的目標(biāo)，如所需要滿足的電路功能、性能指標(biāo)、集成度等；設(shè)計(jì)軟件都包含的版圖設(shè)計(jì)功能；設(shè)計(jì)規(guī)則，如物理極限效應(yīng)及IC制造水平對版圖幾何尺寸提出的限制要求，設(shè)計(jì)人員與工藝人員之間的接口與“協(xié)議”。更加真切的感受到集成電路從設(shè)計(jì)到制造的“一體化”。

2、專業(yè)方向

物理、電子工程、電路與系統(tǒng)、微電子等

3、項(xiàng)目時(shí)長

4周

三、算法與軟件工程：集成電路制造中的工藝仿真

1、項(xiàng)目簡介

集成電路制造過程是由一系列的工藝單元組成的，如：光刻、刻蝕、薄膜沉積等等。這些工藝過程都可以用物理、化學(xué)和光學(xué)模型，借助數(shù)學(xué)公式來描述。例如，光刻工藝，光照射在掩模上發(fā)生衍射，衍射級被投影透鏡收集并會聚在光刻膠表面，這一成像過程是一個(gè)光學(xué)過程；投影在光刻膠上的圖像激發(fā)光化學(xué)反應(yīng)，烘烤后導(dǎo)致光刻膠局部可溶于顯影液，這是化學(xué)過程。工藝仿真就是使用計(jì)算機(jī)來模擬、仿真這些物理和化學(xué)過程，從理論上探索優(yōu)化工藝參數(shù)的途徑。其中，最關(guān)鍵的一塊是opc（光學(xué)鄰近效應(yīng)校正），它是使用光學(xué)模型和光刻膠化學(xué)反應(yīng)模型來計(jì)算出曝光后的圖形，通過移動掩模版上圖形的邊緣或添加額外的多邊形來糾正這些錯(cuò)誤，盡可能的使硅片上生產(chǎn)出的電路與設(shè)計(jì)要求一致。通過本項(xiàng)目的學(xué)習(xí)，學(xué)員可以了解集成電路制造中的典型工藝，學(xué)習(xí)如何建立工藝數(shù)學(xué)模型，如何使用Matlab語言來編程計(jì)算。

2、專業(yè)方向

物理、化學(xué)、光學(xué)、數(shù)學(xué)建模、電子工程、軟件工程等

3、項(xiàng)目時(shí)長

4周

四、高分子功能材料：芯片制造的關(guān)鍵材料—光刻膠

1、項(xiàng)目簡介

光刻膠是一種光敏感的高分子聚合物，具有光化學(xué)敏感性。它是光刻工藝中最關(guān)鍵的材料。掩模版上的圖形被投影在光刻膠上，激發(fā)光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)烘烤和顯影后形成光刻膠圖形。光刻膠圖形作為阻擋層，用于實(shí)現(xiàn)選擇性的刻蝕或離子注入，分別可以將設(shè)計(jì)好的微細(xì)圖形從掩模版上轉(zhuǎn)移到待加工基片上，或者達(dá)到半導(dǎo)體材料表面改性。本項(xiàng)目通過介紹各種光刻膠的化學(xué)成分及其合成的方法，以及介紹光刻膠的性能參數(shù)及其測量方法，建立對集成電路工藝(integrated circuittechnique )，尤其是光刻模塊工藝的認(rèn)識。通過本項(xiàng)目，學(xué)員可以充分感受到光刻膠材料本身以及工藝的穩(wěn)定性可能對器件以及良率的影響。更直觀的認(rèn)識到光刻材料的變動是牽一發(fā)而動全身的，它不僅對后續(xù)刻蝕或離子注入工藝有直接影響，而且其影響可能會在十幾道甚至幾十道工序以后才會顯現(xiàn)出來。

2、專業(yè)方向

物理、化學(xué)，材料學(xué)，高分子材料學(xué)，半導(dǎo)體學(xué)、微電子等相關(guān)專業(yè)

3、項(xiàng)目時(shí)長

4周

（二）科研助理收獲

1、獲得真實(shí)的科研經(jīng)歷，了解國家頂尖自然科學(xué)學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)的科研課題并學(xué)習(xí)科研方法；

2、導(dǎo)出科研成果，為將來專業(yè)學(xué)習(xí)、升學(xué)深造、申請留學(xué)、評定榮譽(yù)等獲得加分項(xiàng)；

3、獲得國家頂尖自然科學(xué)學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)研究員的推薦信的機(jī)會；

4、獲得與中科院研究員共同發(fā)表論文EI/SCI級別論文的機(jī)會。

（三）報(bào)名方式

1、撥打全國免費(fèi)熱線400-6652-485進(jìn)行報(bào)名咨詢；

2、點(diǎn)擊參與免費(fèi)“留學(xué)評估”，即可報(bào)名咨詢！